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&全自动太阳能硅片清洗机
全自动太阳能硅片清洗机
产品型号：HTO
品牌：华泰
起订量：1 台
产品关键字：
&&&&HTO系列超声波清洗机根据硅片性能设计的一种专业清洗设备。设备具有清洗、漂洗等八个工位，设备利用超声波空化渗透力强的工作原理并结合清洗剂的化学除油、去污作用使工作表面洁净。
适用范围:硅片清洗
主要技术参数:电源电压：380V超声功率：14kw/槽加热功率：6kw/槽循环过滤器：10英寸3芯清洗能力：100-150片/次主机外形：L×W×H×1800mm
功能特点:1.本设备为多工位通过式清洗线，传动机械臂气运送料，篮筐式清洗，运行安全可靠，使用寿命长；2.清洗节拍可根据清洗工件的清洁度要求,任意调节清洗时间(面板上直接设定);3.在清洗过程中增加偏心摆动装置,使工件在清洗槽内作上下抛动来提高清洗效果;4.各清先槽设计成锥形结构,并有排污口,便于刷底清洗;5.全封闭结构,设备配有抽风吸雾装置,改善工作环境;6.设备为PLC加触摸屏全自动控制、具有自诊断报警功能，确保设备免受损坏和及时排除故障，整体设计美观大方、操作方便、安全可靠。
全自动太阳能硅片清洗机
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太阳能硅片清洗及原理
&& 15:04:32&&&&我要投稿
:硅片的清洗很重要，它影响电池的转换效率，如器件的性能中反向电流迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要，下面主要介绍清洗的作用和清洗的原理。清洗的作用1.在太阳能材料制备过程中，在硅表面涂有一层具有良好性能的减反射薄膜，有害的杂质离子进入二氧化硅层，会降低绝缘性能，清洗后绝缘性能会更好。2.在等离子边缘腐蚀中，如果有油污、水气、灰尘和其它杂质存在，会影响器件的质量，清洗后质量大大提高。3.硅片中杂质离子会影响P-N结的性能，引起P-N结的击穿电压降低和表面漏电，影响P-N结的性能。4.在硅片外延工艺中，杂质的存在会影响硅片的电阻率不稳定。清洗的原理要了解清洗的原理，首先必须了解杂质的类型，杂质分为三类：一类是分子型杂质，包括加工中的一些有机物;二类是离子型杂质，包括腐蚀过程中的钠离子、氯离子、氟离子等;三是原子型杂质，如金、铁、铜和铬等一些重金属杂质。目前最常用的清洗方法有：化学清洗法、超声清洗法和真空高温处理法。1.目前的化学清洗步骤有两种：(1)有机溶剂(甲苯、丙酮、酒精等)&去离子水&无机酸(盐酸、硫酸、硝酸、王水)&氢氟酸&去离子水(2)碱性过氧化氢溶液&去离子水&酸性过氧化氢溶液&去离子水下面讨论各种步骤中试剂的作用。a.有机溶剂在清洗中的作用用于常用的有机溶剂有甲苯、丙酮、酒精等。在清洗过程中，甲苯、丙酮、酒精等有机溶剂的作用是除去硅片表面的油脂、松香、蜡等有机物杂质。所利用的原理是&相似相溶&。b.无机酸在清洗中的作用硅片中的杂质如镁、铝、铜、银、金、氧化铝、氧化镁、二氧化硅等杂质，只能用无机酸除去。有关的反应如下：2Al+6HCl=2AlCl3+3H2&Al2O3+6HCl=2AlCl3+3H2OCu+2H2SO4=CuSO4+SO2&+2H2O2Ag+2H2SO4=2Ag2SO4+SO2&+2H2OCu+4HNO3=Cu(NO3)2+2NO2&+2H2OAg+4HNO3=AgNO3+2NO2&+2H2OAu+4HCl+HNO3=H[AuCl4]+NO&+2H2OSiO2+4HF=SiF4&+2H2O如果HF过量则反应为：SiO2+6HF=H2[SiF6]+2H2OH2O2的作用：在酸性环境中作还原剂，在碱性环境中作氧化剂。在硅片清洗中对一些难溶物质转化为易溶物质。如：As2S5+20H2O2+16NH4OH=2(NH4)3AsO4+5(NH4)2SO4+28H2OMnO2+H2SO4+H2O2=MnSO4+2H2O+O2&c.RCA清洗方法及原理在生产中，对于硅片表面的清洗中常用RCA方法及基于RCA清洗方法的改进，RCA清洗方法分为Ⅰ号清洗剂(APM)和Ⅱ号清洗剂(HPM)。Ⅰ号清洗剂(APM)的配置是用去离子水、30%过氧化氢、25%的氨水按体积比为：5:1：1至5:2：1;Ⅱ号清洗剂(HPM)的配置是用去离子水、30%过氧化氢、25%的盐酸按体积比为：6:1：1至8:2：1。其清洗原理是：氨分子、氯离子等与重金属离子如：铜离子、铁离子等形成稳定的络合物如：[AuCl4]-、[Cu(NH3)4]2+、[SiF6]2-。清洗时，一般应在75～85℃条件下清洗、清洗15分钟左右，然后用去离子水冲洗干净。Ⅰ号清洗剂(APM)和Ⅱ号清洗剂(HPM)有如下优点：(1)这两种清洗剂能很好地清洗硅片上残存的蜡、松香等有机物及一些重金属如金、铜等杂质;(2)相比其它清洗剂，可以减少钠离子的污染;(3)相比浓硝酸、浓硫酸、王水及铬酸洗液，这两种清洗液对环境的污染很小，操作相对方便。2.超声波在清洗中的作用目前在半导体生产清洗过程中已经广泛采用超声波清洗技术。超声波清洗有以下优点：(1)清洗效果好，清洗手续简单，减少了由于复杂的化学清洗过程中而带来的杂质的可能性;(2)对一些形状复杂的容器或器件也能清洗。超声波清洗的缺点是当超声波的作用较大时，由于震动磨擦，可能使硅片表面产生划道等损伤。超声波产生的原理：高频震荡器产生超声频电流，传给换能器，当换能器产生超声震动时，超声震动就通过与换能器连接的液体容器底部而传播到液体内，在液体中产生超声波。3.真空高温处理的清洗作用硅片经过化学清洗和超声波清洗后，还需要将硅片真空高温处理，再进行外延生长。真空高温处理的优点：(1)由于硅片处于真空状态，因而减少了空气中灰尘的玷污;(2)硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加，因而真空高温易除去;(3)硅片可能玷污的一些固体杂质在真空高温条件下，易发生分解而除去。
来源：北极星太阳能光伏网
投稿联系：陈女士
邮箱：（请将#换成@）
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